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| 纳米硅薄膜制备新技术——逐层生长法 | |
| 引用本文： | 韩伟强,韩高荣.纳米硅薄膜制备新技术——逐层生长法[J].材料导报,1995,9(6):44-50. |
| 作者姓名： | 韩伟强 韩高荣 |
| 作者单位： | 浙江大学材料系，浙江大学材料系，浙江大学材料系 杭州 310027，杭州 310027，杭州 310027 |
| 摘 要： | 介绍了利用逐层生长法（ｌａｙｅｒ ｂｙ ｌａｙｅｒ）在等离子体化学气相沉积系统中制备纳米硅薄膜，着重介绍了制备纳米硅薄膜的沉积过程和生长机制。指了氢基团为制备新技术发展的关键，并且将在今后纳米硅薄膜制备技术发展中起重要作用。 |
| 关 键 词： | 纳米硅 薄膜 逐层生长法 氢基团 |
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