移动抛光自由曲面材料去除的理论建模与试验研究

针对计算机控制抛光加工中自由曲面零件精确修形的需求,研究抛光盘移动抛光时材料去除廓形的特点,重点对轨迹过渡区域的材料去除进行建模。运用对单位轨迹长度材料去除率在接触区域内沿着抛光轨迹积分的方法,求解垂直于抛光轨迹的材料去除廓形。对直线轨迹和圆弧轨迹在过渡转角垂直平分线上的材料去除进行分类讨论,在此基础上对轨迹过渡区域抛光去除廓形进行计算,并通过试验对模型进行验证。研究结果表明,移动抛光时轨迹过渡区域材料去除不均匀,抛光轨迹半径和过渡圆弧角度均对材料去除廓形有影响。将理论与试验相结合,揭示了抛光轨迹对材料去除廓形的影响,对抛光工艺参数设计和轨迹规划有一定的指导意义。