| 纯铜双层辉光离子临界区渗钛研究 |
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| 引用本文： | 袁庆龙,苏永安,张跃飞,徐重. 纯铜双层辉光离子临界区渗钛研究[J]. 材料热处理学报, 2003, 24(3): 70-73 |
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| 作者姓名： | 袁庆龙 苏永安 张跃飞 徐重 |
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| 作者单位： | 太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024 |
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| 摘 要： | 利用双层辉光离子渗金属技术在纯铜表面制备了铜钛合金层。实验结果表明，合金层由以铜钛化合物为主的表层和钛在铜中α固溶体与弥散分布的Cu4Ti有序相的次表层组成。在源极与工件间距固定的条件下，表层成分受源极电压、工件电压和温度的影响，次表层厚度主要受温度和时间影响。在扩渗初期，轰击离子的强度对钛元素有催渗作用。源极电压与工件电压之比V源/V工≥2，气压选在(25～40)Pa有利于铜钛合金层的形成。纯铜渗钛虽可使材料表面强化，但表面电阻明显增大。
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| 关 键 词： | 纯铜 双层辉光放电 渗钛 α固溶体 |
| 文章编号： | 1009-6264(2003)03-0070-04 |
Titanizing on the Surface of Pure Copper with Double Glow Discharge Process |
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| YUAN Qing-long,SU Yong-an,ZHANG Yue-fei,XU Zhong. Titanizing on the Surface of Pure Copper with Double Glow Discharge Process[J]. Transactions of Materials and Heat Treatment, 2003, 24(3): 70-73 |
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| Authors: | YUAN Qing-long SU Yong-an ZHANG Yue-fei XU Zhong |
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| Keywords: | pure copper double glow discharge titanizing |
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