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| 沉积在Si衬底上Co_2MnSi薄膜的结构和磁性能分析 | |
| 作者姓名： | 李纪辉 杨辅军 陈宏博 刘德高 李万军 陈晓琴 杨昌平 |
| 作者单位： | 湖北大学物理与电子科学学院铁电压电材料与器件重点实验室;有机化工新材料湖北省协同创新中心; |
| 摘 要： | 将不同厚度的Co_2Mn Si(CMS)薄膜沉积在Si衬底上,并在不同的退火温度下退火,以探究其微观结构以及磁性能的变化规律.保持CMS薄膜退火温度为600℃,随着薄膜厚度增加至100 nm,由于B2结构取向增大,其Ms随之相应增大到923 emu/cc;保持CMS薄膜厚度为50 nm,随着退火温度升高到700℃,可以观察到B2结构取向减小,而且Hc值异常增加到134 Oe,这可能是由于CMS层与Ta层存在相互扩散的现象所导致. |
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