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| 铱金属氧化物pH电极的表面修饰研究 | |
| 作者姓名： | 陈东初付朝阳 郑家燊李文芳 |
| 作者单位： | 1. 华南理工大学,广东,广州,510640;佛山科技学院,广东,佛山,528000 2. 华中科技大学,湖北,武汉,430074 3. 华南理工大学,广东,广州,510640 |
| 摘 要： | 采用离子选择性透过膜对铱金属氧化物pH电极进行表面修饰,提高了氧化物pH电极对氧化／还原性阴离子的抗干扰能力;研究了离子选择性透过膜修饰对电极的E-pH关系以及响应速度的影响;利用扫描电镜观察离子选择性透过膜的表面与截面孔径分布,优化了离子选择性膜的制备工艺;利用循环伏安法研究了氧化物电极在I^-溶液中的电化学行为;利用膜电位测定方法计算了膜内阴、阳离子透过系数t＋,t-,探讨了离子选择性透过机理。 |
| 关 键 词： | 电极 修饰 离子选择性 干扰 |
| 文章编号： | 1002-185X(2007)04-0636-04 |
| 修稿时间： | 2006-01-28 |
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