Ar~+离子刻蚀对苹果表皮的剥离效果分析 |
| |
引用本文: | 张欣艳,王畅,赵达. Ar~+离子刻蚀对苹果表皮的剥离效果分析[J]. 江苏农业科学, 2010, 0(1) |
| |
作者姓名: | 张欣艳 王畅 赵达 |
| |
作者单位: | 黑龙江八一农垦大学文理学院,黑龙江大庆,163319 |
| |
摘 要: | Ar+离子刻蚀是一种表面剥离手段,剥离速度与物质性质相关,常与各类表面分析技术联合,用于对表面物质成分随深度分布进行分析。本研究借助于荧光显微技术对Ar+离子刻蚀苹果果实表皮的剥离效果进行分析,结果显示,Ar+离子刻蚀能够对苹果果实表皮进行逐层剥离,剥离均匀,效果明显,且无损伤。
|
关 键 词: | Ar+ 离子刻蚀 苹果表皮 显微结构 剥离效果 |
Anslysis of the effects of Ar~+ ion etching on peeling of apple skin |
| |
Abstract: | |
| |
Keywords: | Ar~+ |
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录! |
|