一种新的各向异性腐蚀液—乙醇胺水溶液 |
| |
引用本文: | 候承贵,宋登元,雷利明,王永青.一种新的各向异性腐蚀液—乙醇胺水溶液[J].半导体技术,1983(2). |
| |
作者姓名: | 候承贵 宋登元 雷利明 王永青 |
| |
作者单位: | 河北大学电子系,河北大学电子系,河北大学电子系半导体物理与器件专业,河北大学电子系半导体物理与器件专业 78级学生,78级学生 |
| |
摘 要: | 本文介绍一种新的用于硅的各向异性腐蚀液——乙醇胺水溶液。用该种腐蚀液成功地在硅(100)面上腐蚀出了侧壁光滑、钻蚀很小的V形槽,在(110)面上腐蚀出了U形槽。实验表明,这种腐蚀液与目前已报导的三种各向异性腐蚀液相比,具有无毒,无碱金属离子沾污,操作简便及容易控制等优点。实验给出了(100)、(110)、(111)面的腐蚀速率与腐蚀液浓度和腐蚀温度的关系曲线;讨论了最佳腐蚀条件;测定出低指数(100)、(110)和(111)晶面的腐蚀反应表现激活能均为10.7±0.5千卡/克分子。同时也对腐蚀中出现的若干现象进行了分析和讨论。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|