| 磷化铟的动态磁场集群磁流变抛光工艺实验 |
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| 引用本文： | 孙世孔,路家斌,阎秋生.磷化铟的动态磁场集群磁流变抛光工艺实验[J].润滑与密封,2021,46(11):40-45. |
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| 作者姓名： | 孙世孔 路家斌 阎秋生 |
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| 作者单位： | 广东工业大学机电工程学院;广东工业大学机电工程学院，广东纳诺格莱科技有限公司 |
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| 基金项目： | NSFC-广东省联合基金项目（U1801259）；国家自然科学基金项目（52075102）；佛山市科技创新专项资金项目（2018IT100242）. |
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| 摘 要： | 为实现磷化铟高质量表面的绿色加工，使用动态磁场集群磁流变抛光对单晶磷化铟进行正交抛光实验，研究各工艺参数（抛光盘转速、工件转速、磁极转速和偏摆速度）对抛光速率及抛光表面粗糙度的影响。利用回归分析法建立反映材料去除率及表面粗糙度与抛光工艺参数关系的回归方程。结果显示：在抛光工艺参数中，工件转速对材料去除率影响最大，偏摆速度影响最小；对表面粗糙度影响最大的是抛光盘转速，磁极转速影响最小；在优化工艺参数（抛光盘转速40 r/min、工件转速500 r/min、磁极转速30 r/min、偏摆速度200 mm/min）下对单晶磷化铟抛光3 h后，表面粗糙度由Ra33 nm降至Ra 0.35 nm，材料去除率为2.5 μm/h，表明采用动态集群磁流变抛光的方法加工单晶磷化铟，可以得到高质量加工表面；建立的材料去除率及表面粗糙度回归模型，拟合优度判定系数分别为0.984 2和0.937，表明利用回归分析法建立的磷化铟磁流变抛光的材料去除率及表面粗糙度回归模型，能够有效地预测磷化铟集群磁流变抛光效果。
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| 关 键 词： | 磷化铟 磁流变抛光 工艺优化 抛光效果 回归模型 |
Technological Experiment of Cluster Magnetorheological Finishing of InP Wafer with Dynamic Magnetic Fields |
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| SUN Shikong,LU Jiabin,YAN Qiusheng.Technological Experiment of Cluster Magnetorheological Finishing of InP Wafer with Dynamic Magnetic Fields[J].Lubrication Engineering,2021,46(11):40-45. |
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| Authors: | SUN Shikong LU Jiabin YAN Qiusheng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | indium phosphide magnetorheological finishing process optimization polishing effects regression model |
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