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3英寸双面YBCO高温超导外延薄膜研究
引用本文:陈家俊,陶伯万,邓新武,刘兴钊,李德红,张鹰,何世明,李言荣,羊恺,张其劭.3英寸双面YBCO高温超导外延薄膜研究[J].低温物理学报,2003,25(Z1):16-19.
作者姓名:陈家俊  陶伯万  邓新武  刘兴钊  李德红  张鹰  何世明  李言荣  羊恺  张其劭
作者单位:电子科技大学,成都,610054
摘    要:本文采用倒筒直流溅射方法(ICS)结合基片变速双轴旋转方式原位生长Φ3英寸双面YBCO高温超导外延薄膜.膜厚分布最大偏差小于10%,薄膜样品的中心与边缘部分的Tc0均达到90K,ΔTc≤0.3K,FWHM(005)≈0.2°,Rs(10GHz,77K)≈0.8mΩ,Jc值分布在2.2~3.1MA*cm-2之间,表明样品均匀性良好.

关 键 词:高温超导薄膜  YBCO  均匀性

DEPOSITION OF 3-INCH DOUBLE-SIDED YBCO HIGH-Tc SUPERCONDUCTING EPITAXIAL THIN FILMS
Abstract:
Keywords:YBCO
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