| 微波等离子CVD法在石英玻璃上生长金刚石薄膜 |
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| 引用本文： | 朱建勇,梅炳初,李力,柴欣.微波等离子CVD法在石英玻璃上生长金刚石薄膜[J].材料保护,2002,35(10):7-8. |
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| 作者姓名： | 朱建勇 梅炳初 李力 柴欣 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学,复合材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070 |
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| 摘 要： | 在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜，用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜，并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析，指出其形成中间层SiO2/Si/SiC/C（金刚石）是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键。
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| 关 键 词： | 微波等离子 CVD法 石英玻璃 生长 金刚石薄膜 化学气相沉积法 X射线衍射 Raman光谱 光电子能谱 |
| 文章编号： | 1001-1560(2002)10-0007-02 |
| 修稿时间： | 2002年4月20日 |
Diamond Films Growth on the Quartz Glass by MWCVD |
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| ZHU Jian\|yong,MEI Bing\|chu,LI Li,CHAI Xin.Diamond Films Growth on the Quartz Glass by MWCVD[J].Journal of Materials Protection,2002,35(10):7-8. |
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| Authors: | ZHU Jian\|yong MEI Bing\|chu LI Li CHAI Xin |
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| Abstract: | The silicon film was formed on the quartz glass by hydrogen etching in vacuum, and the diamond film was analyzed by using XRD, Raman and XPS. The diamond film grown on the glass by MWCVD method was ascribed to form intermediate layer of SiO\-2/Si/SiC/C. |
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| Keywords: | XRD Raman XPS diamond films CVD |
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