| 提高单晶炉真空密闭性能的探讨 |
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| 引用本文： | 许扬.提高单晶炉真空密闭性能的探讨[J].人工晶体学报,2003,32(5):528-533. |
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| 作者姓名： | 许扬 |
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| 作者单位： | 西安理工大学晶体生长设备研究所,西安,710048 |
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| 摘 要： | 晶间腐蚀、应力腐蚀和缝隙腐蚀,是单晶炉炉室发生水渗漏的主要原因,因而是制造过程中材料选择、热加工工艺、机械设计与加工以及设备使用中要特别予以关注的问题.在至少380℃以上温度进行热时效会强化材料的晶间敏化趋向,较合理的措施是进行振动时效处理.结构设计中还应对炉室工作时的热应力及其作用加以考虑,热场设计中应对炉室内壁材料的晶间敏化问题和单晶棒产生的热辐射予以重视.纯净的冷却水是防止或减少腐蚀的重要条件.
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| 关 键 词： | 单晶炉 真空 奥氏体不锈钢 腐蚀 残余应力 |
| 文章编号： | 1000-985X(2003)05-0528-06 |
| 修稿时间： | 2003年5月4日 |
Investigation on the Improvement of the Vacuum and Obturation in Crystal Puller's Chamber |
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| XU Yang.Investigation on the Improvement of the Vacuum and Obturation in Crystal Puller's Chamber[J].Journal of Synthetic Crystals,2003,32(5):528-533. |
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| Authors: | XU Yang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | crystal pullers vacuum stainless steel corrosion residual stress |
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