| 磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜的表面粗糙度研究 |
| |
| 引用本文： | 张吴晖,卢文壮,杨斌,杨凯,杨旭. 磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜的表面粗糙度研究[J]. 航空兵器, 2017, 0(2). DOI: 10.19297/j.cnki.41-1228/tj.2017.02.012 |
| |
| 作者姓名： | 张吴晖 卢文壮 杨斌 杨凯 杨旭 |
| |
| 作者单位： | 1. 南京航空航天大学 机电学院, 南京 210016;江苏省精密与微细制造技术重点实验室,南京 210016;2. 南京航空航天大学 机电学院,南京,210016 |
| |
| 基金项目： | 航空科学基金项目,南京航空航天大学研究生创新基地(实验室)开放基金 |
| |
| 摘 要： | V_2O_5是一种具有热致相变特性的新型非线性光学材料,被广泛应用于激光致盲防护领域。V_2O_5薄膜的表面粗糙度是影响其性能的重要因素。本文采用磁控溅射镀膜的方法在蓝宝石表面制备V_2O_5薄膜,通过控制氧氩比以及衬底温度,探究V_2O_5薄膜表面粗糙度与这两个因素之间的关系。实验表明,衬底温度较低(约300℃)时,表面粗糙度较小,且随氧含量变化不大;衬底温度较高(400℃以上)时,随着氧含量的增加,表面粗糙度变大。同时,当氧分压一定时,随着衬底温度的提高,薄膜的表面粗糙度也增大。
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 氧氩比 衬底温度 V2O5薄膜 表面粗糙度 激光防护技术 |
Study on Surface Roughness of V2 O5 Films Prepared by Magnetron Sputtering |
| |
| Zhang Wuhui,Lu Wenzhuang,Yang Bin,Yang Kai,Yang Xu. Study on Surface Roughness of V2 O5 Films Prepared by Magnetron Sputtering[J]. Aero Weaponry, 2017, 0(2). DOI: 10.19297/j.cnki.41-1228/tj.2017.02.012 |
| |
| Authors: | Zhang Wuhui Lu Wenzhuang Yang Bin Yang Kai Yang Xu |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
