| ChCl-Urea低共熔溶剂中电沉积锌的工艺研究 |
| |
| 引用本文： | 孙海静,杨帅,王贺,徐飞,杜俊荣,王媛媛,毕铭雪,从铭玥,孙杰. ChCl-Urea低共熔溶剂中电沉积锌的工艺研究[J]. 电镀与精饰, 2021, 43(11): 23-28. DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2021.11.005 |
| |
| 作者姓名： | 孙海静 杨帅 王贺 徐飞 杜俊荣 王媛媛 毕铭雪 从铭玥 孙杰 |
| |
| 作者单位： | 沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁沈阳110159 |
| |
| 基金项目： | 辽宁省教育厅青年科技人才育苗项目;辽宁省-沈阳材料科学国家研究中心联合研发基金项目;大学生创新创业训练计划项目 |
| |
| 摘 要： | 在摩尔比为1:2的氯化胆碱-尿素低共熔溶剂(ChCl-Urea DES)中于纯铜基体表面制备了锌镀层.通过调整沉积电位、沉积温度和锌盐配比等参数,采用正交实验优化了电沉积工艺,并通过动电位极化曲线对比研究了ChCl-Urea DES和传统水溶液中锌镀层的耐蚀性能.采用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射技术(XRD)对ChCl-Urea DES中锌镀层的微观形貌和物相组成进行了表征.结果表明,在摩尔比为1:2的ChCl-Urea DES中锌电沉积的最佳方案为沉积电位1.0 V、锌盐配比2ZnCl2:1ZnO(摩尔比)、沉积温度70℃.在此方案下可获得均匀平整,颗粒致密的锌镀层,且其耐蚀性与传统水溶液相当.SEM表明,锌镀层是由排列紧密的六方形立体结构的灰白色颗粒物质构成.XRD表明,锌镀层主要由六方结构的多晶锌组成.
|
| 关 键 词： | 低共熔溶剂 离子液体 电沉积 锌 耐蚀性 |
Study on the Technology of Zinc Electrodeposition in ChCl-Urea Deep Eutectic Solvent |
| |
| SUN Haijing,YANG Shuai,WANG He,XU Fei,DU Junrong,WANG Yuanyuan,BI Mingxue,CONG Mingyue,SUN Jie. Study on the Technology of Zinc Electrodeposition in ChCl-Urea Deep Eutectic Solvent[J]. Plating & Finishing, 2021, 43(11): 23-28. DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2021.11.005 |
| |
| Authors: | SUN Haijing YANG Shuai WANG He XU Fei DU Junrong WANG Yuanyuan BI Mingxue CONG Mingyue SUN Jie |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
