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| 磁场条件下化学镀镍薄膜制备及磁性能研究 | |
| 引用本文： | 刘洋,王丹洁,寿容儿,张红星,余云丹,卫国英,葛洪良,孙丽侠.磁场条件下化学镀镍薄膜制备及磁性能研究[J].电镀与精饰,2014(5). |
| 作者姓名： | 刘洋 王丹洁 寿容儿 张红星 余云丹 卫国英 葛洪良 孙丽侠 |
| 作者单位： | 中国计量学院材料科学与工程学院; |
| 基金项目： | 浙江省自然科学基金(LQ12E01007);国家国际合作项目(2011DFA52400) |
| 摘 要： | 利用化学镀方法,在没有外磁场和施加弱磁场条件下制备了磁性镍薄膜。薄膜均具有银色金属光泽,表面平整致密。X-射线衍射仪分析表明,弱磁场下制得的薄膜中镍晶粒的取向排列性较强。扫描电子显微镜观察可知,未加磁场制备的镍膜是由粒径200nm的镍纳米颗粒在基底上沉积组成的。在磁场条件下制备的镍膜是由数十微米长的镍纳米线在基底上有序排列组成。磁测量结果表明,磁场条件下制备的镍膜的磁性能有显著改变,原因是由膜层特殊的磁畴结构造成的。 |
| 关 键 词： | 化学镀 磁场 镍薄膜 形貌 磁性能 |
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