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| 基于UV/H_2O_2和UV/PS工艺降解水体中磺胺吡啶研究 | |
| 作者单位： | ;1.江西理工大学资源与环境工程学院;2.同济大学环境科学与工程学院 |
| 摘 要： | 采用高级氧化技术-紫外/双氧水(UV/H_2O_2)和紫外/过硫酸盐(UV/PS)工艺降解磺胺吡啶(SPY)。研究表明,紫外与氧化剂(H_2O_2、PS)联用可显著提高去除率,其反应符合拟一级动力学模型。目标污染物磺胺吡啶的去除率在一定浓度内随着氧化剂H_2O_2和PS浓度升高而升高;磺胺吡啶初始浓度越大,反应速率越小;UV/H_2O_2工艺降解磺胺吡啶最大去除率发生在p H=3,而UV/PS工艺降解SPY在p H=11时去除率最大;Na Cl会抑制UV/H_2O_2和UV/PS工艺对目标污染物的降解,而适当的Na HCO_3可促进降解反应的进行;腐植酸对UV/PS工艺产生抑制作用,低浓度腐植酸(≤1 mmol/L)对UV/H_2O_2工艺则有促进作用。 |
| 关 键 词： | 磺胺吡啶 紫外/双氧水 紫外/过硫酸盐 影响因素 反应动力学模型 |
Degradation of sulfapyridine in aqueous solution by UV/H_2O_2 and UV/PS technology |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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