| 反应离子镀制备ITO膜 |
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| 引用本文： | 王建成,韩丽瑛.反应离子镀制备ITO膜[J].光学技术,1993(5). |
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| 作者姓名： | 王建成 韩丽瑛 |
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| 作者单位： | 河南师范大学物理系，清华大学现代应用物理系 新乡 453002，北京 100084 |
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| 摘 要： | 采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,所制备的ITO膜在550～600nm波长范围内,典型的峰值透过率为89%,面电阻为34Ω/□。
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| 关 键 词： | 反应离子镀 ITO透明导电膜 |
Reactive ion plating of indium tin oxide films (ITO) |
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| Wang Jianchen Han Liying.Reactive ion plating of indium tin oxide films (ITO)[J].Optical Technique,1993(5). |
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| Authors: | Wang Jianchen Han Liying |
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| Affiliation: | Wang Jianchen Han Liying |
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| Abstract: | Films with sheet resistance of 34Ω/□ and peak transmittance of 89% in visible region have been deposited on K9 glass substrate by reactive ion plating deposition. |
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| Keywords: | reactive ion plating transparent and electrically conductive ITO films |
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