首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

电流密度对微弧氧化膜层厚度和硬度的影响
引用本文:贺子凯,唐培松.电流密度对微弧氧化膜层厚度和硬度的影响[J].表面技术,2003,32(3):21-24.
作者姓名:贺子凯  唐培松
作者单位:昆明理工大学,云南,昆明,650093
摘    要:电流密度对微弧氧化陶瓷膜的生长和性能的影响较大,不同的电流密度、工作电压,制得的氧化膜层的厚度、硬度、防护性能也将不同。主要研究电流密度对微弧氧化陶瓷膜的厚度和硬度的影响。

关 键 词:电流密度  微弧氧化  氧化膜  物理性能
文章编号:1001-3660(2003)03-0021-04

Effects of Current Density on Thickness and Hardness of Microarc Oxide Film
HE Zi kai,TANG Pei song.Effects of Current Density on Thickness and Hardness of Microarc Oxide Film[J].Surface Technology,2003,32(3):21-24.
Authors:HE Zi kai  TANG Pei song
Abstract:The effect of current density on growth and property of microarc oxide film ceramic film is very strong.Thickness,hardness and profective performance of oxide film are different with diffrent current density,operating voltage.In this paper the effect of current density on thinkness and hardness of microarc oxide ceramic film is studied.
Keywords:Current density  Microarc Oxide ation  Oxide film  Physical property
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号