首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

μc-Si:H薄膜的激活能特性研究
作者姓名:陈庆东  王俊平  马国利  张宇翔  卢景霄
作者单位:1. 滨州学院物理与电子科学系,山东滨州,256603
2. 郑州大学材料物理教育部重点实验室,河南郑州,450052
摘    要:通过激活能测试装置测量VHF-PECVD高速沉积的本征微晶硅薄膜的激活能,结果表明:在不同沉积条件下制备的本征微晶硅薄膜,晶化处于非晶-微晶相变域附近,激活能都偏低,存在氧污染问题,研究了氧污染解决途径.

关 键 词:VHF-PECVD  微晶硅  激活能  氧污染
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号