| 薄Si膜对基底表面粗糙度的影响 |
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| 引用本文： | 邵建达,范正修,易葵,王润文.薄Si膜对基底表面粗糙度的影响[J].中国激光,1996,23(9):801-805. |
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| 作者姓名： | 邵建达 范正修 易葵 王润文 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海光机所 |
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| 摘 要： | 利用ＺＹＧＯ光学干涉测量仪，散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度．详细分析了薄Ｓｉ膜对基底均方根粗糙度的影响，由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度，结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象．提出了一定厚度范围的薄Ｓｉ膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想．
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| 关 键 词： | 均方根粗糙度，ZYGO光学干涉测量，Si膜 |
| 收稿时间： | 1995/10/6 |
The Roughness of the Very Thin Si Films |
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| Shao Jianda,Fan Zhengxiu,Yi Kui,Wang Runwen.The Roughness of the Very Thin Si Films[J].Chinese Journal of Lasers,1996,23(9):801-805. |
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| Authors: | Shao Jianda Fan Zhengxiu Yi Kui Wang Runwen |
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| Abstract: | The surface roughness of the very thin Si films deposited on the K9 glass and thesilicon wafer using planar magnetron sputtering has ben measured by ZYGO and scatteringmethods.A saturated value of the roughness of the very thin Si films on the K9 glass isillustrated. |
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| Keywords: | surface RMS roughness ZYGO thin Si film |
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