| 用于高分辨大视场激光刻的全息照相技术研究 |
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| 引用本文： | 冯伯儒,张锦,侯德胜,陈芬.用于高分辨大视场激光刻的全息照相技术研究[J].微细加工技术,2001,1(1):1-7. |
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| 作者姓名： | 冯伯儒 张锦 侯德胜 陈芬 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院
2. 四川师范学院物理系, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助(69776028)；微细加工光学技术国家重点实验室基金资助项目(KFS9901) |
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| 摘 要： | 介绍一种全息光刻技术的基本原理，全息掩模复位精度的影响，全息光刻技术的优点及其应用，并对全息光刻系统的设计考虑作了详细介绍，并给出部分实验结果。
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| 关 键 词： | 全息微光刻 TIR全息 全息照相技术 高分辨 |
| 文章编号： | 1003-8213(2001)01-0001-07 |
| 修稿时间： | 2000年4月25日 |
Holography Used in Optical
Microlithography with High Resolution and Large Field |
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| FENG Bo?ru,ZHANG Jin ,HOU De?sheng,CHEN Fen.Holography Used in Optical
Microlithography with High Resolution and Large Field[J].Microfabrication Technology,2001,1(1):1-7. |
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| Authors: | FENG Bo?ru ZHANG Jin HOU De?sheng CHEN Fen |
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| Affiliation: | FENG Bo?ru1,ZHANG Jin 1,2,HOU De?sheng1,CHEN Fen3 |
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| Abstract: | The primary princeple,hologram mask reposition accuracy,advantages and applications of holographic microlithography are described.Some main aspects of holographic microlithography system design are presented.Also some experimental results are given. |
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| Keywords: | Optical microlithography Holography Holographic microlithography TIR holography |
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