纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层 |
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引用本文: | 陆静,王艳辉,臧建兵.纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层[J].超硬材料工程,2007,19(6):1-5. |
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作者姓名: | 陆静 王艳辉 臧建兵 |
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作者单位: | 燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室,河北,秦皇岛,066004 |
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摘 要: | 采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层。通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳米金刚石的完整包覆。实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等分析方法研究了镀硅纳米金刚石的形貌、结构、表面吸附状态和热稳定性。结果表明,SiH4气体循环吸附-热解的QALD方法可在纳米金刚石颗粒表面形成均匀连续、厚度可控的硅镀层。热解反应温度为600℃时,硅镀层为立方相。纳米金刚石镀硅后,热稳定性显著提高,温度升高到1000℃也没有明显的氧化反应发生。
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关 键 词: | 纳米金刚石 硅镀层 准原子层沉积 热稳定性 |
文章编号: | 1673-1433(2007)06-0001-05 |
修稿时间: | 2007年9月15日 |
Silicon quasi atomic layer deposition on nanodiamond |
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Authors: | LU Jing WANG Yan-hui ZANG Jian-bing |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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