| 铝基体上沉积硅氧化物薄膜及结合性能研究 |
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| 引用本文： | 赵胜利,文九巴,樊丽梅,祝要民,宋国英. 铝基体上沉积硅氧化物薄膜及结合性能研究[J]. 功能材料, 2006, 37(12): 1926-1928 |
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| 作者姓名： | 赵胜利 文九巴 樊丽梅 祝要民 宋国英 |
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| 作者单位： | 河南科技大学,材料学院,河南,洛阳,471003;解放军150中心医院肛肠科,河南,洛阳,471031 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划) , 国家自然科学基金 , 河南省教育厅自然科学基金 |
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| 摘 要： | 以单晶硅片为靶材,高纯Ar和O2分别为溅射气体和反应气体,采用反应磁控溅射法在铝基体上制备了硅氧化物薄膜.由扫描电镜(SEM)、投射电镜(TEM)、电子衍射(ED)、X射线能量散射仪(EDX)等表征了薄膜的形貌、结构和组成,通过划痕试验、弯曲试验以及热冲击试验考察了薄膜与基体结合性能.研究结果表明,在Al基体表面制备了表面粗糙度均匀、无裂缝的富硅非晶态硅氧化物薄膜,其中Si和O的原子比为1∶1.57.在经NaOH溶液腐蚀的Al基体上SiOx薄膜具有很强的结合能力,可作为蛋白质芯片的固相载体.
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| 关 键 词： | 硅氧化物薄膜 铝基体 磁控溅射 结合性能 |
| 文章编号： | 1001-9731(2006)12-1926-03 |
| 收稿时间： | 2006-06-28 |
| 修稿时间： | 2006-10-29 |
Preparation of SiOx film on Al substrate and it's adhesion |
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| ZHAO Sheng-li,WEN Jiu-ba,FAN Li-mei,ZHU Yao-min,SONG Guo-ying. Preparation of SiOx film on Al substrate and it's adhesion[J]. Journal of Functional Materials, 2006, 37(12): 1926-1928 |
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| Authors: | ZHAO Sheng-li WEN Jiu-ba FAN Li-mei ZHU Yao-min SONG Guo-ying |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | silicon oxides film Al substrate magnetron sputtering adhesion |
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