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| 溅射参数对SmCo/Cr薄膜铬底层晶面取向及磁学性能的影响 | |
| 引用本文： | 段静芳,许小红,武海顺,李佐宜. 溅射参数对SmCo/Cr薄膜铬底层晶面取向及磁学性能的影响[J]. 稀有金属, 2003, 27(5): 561-564 |
| 作者姓名： | 段静芳 许小红 武海顺 李佐宜 |
| 作者单位： | 1. 山西师范大学化学与材料科学学院,山西,临汾,041004 2. 山西师范大学化学与材料科学学院,山西,临汾,041004;华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074 3. 华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074 |
| 基金项目： | 教育部高等学校骨干教师资助计划项目，山西省自然科学基金，湖北省科技攻关计划项目资助 |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射法制备SmCo／Cr薄膜磁记录材料，通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间，得到了磁性能不同的SmCo／Cr薄膜。利用X射线衍射法对Cr底层晶面取向和磁控溅射参数之间的关系进行了研究，结果表明：如果改变溅射参数，使沉积cr原子获得较大的能量，则有利于Cr底层最终以(110)晶面择优取向。本实验中Cr底层以(110)晶面择优取向的最佳实验条件为：溅射功率在50～70w左右，靶基距为6cm，压强为0．5Pa，溅射时间为15min。利用振动样品磁强计(VSM)测定SmCo／Cr薄膜的磁学性能，结果表明，如果Cr底层能以(110)晶面择优取向，所得到的SmCo／Cr薄膜的磁学性能较好。 |
| 关 键 词： | 铬底层 晶面取向 溅射参数 SmCo／Cr薄膜 矫顽力 |
| 文章编号： | 0258-7076(2003)05-0561-04 |
| 修稿时间： | 2003-04-10 |
Effect of Sputtering Parameters on Chromium Underlayers and Magnetic Properties of SmCo/Cr Thin Films |
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| Duan Jingfang ,Xu Xiaohong ,,Wu Haishun ,Li Zuoyi. Effect of Sputtering Parameters on Chromium Underlayers and Magnetic Properties of SmCo/Cr Thin Films[J]. Chinese Journal of Rare Metals, 2003, 27(5): 561-564 | |
| Authors: | Duan Jingfang Xu Xiaohong Wu Haishun Li Zuoyi |
| Affiliation: | Duan Jingfang 1,Xu Xiaohong 1,2*,Wu Haishun 1,Li Zuoyi 2 |
| Abstract: | |
| Keywords: | chromium underlayers orientation sputtering parameter SmCo/Cr thin film coercivity |
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