| Ti／Mo的离子束混合研究 |
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| 引用本文： | 张建伟,王佩璇,张国光.Ti／Mo的离子束混合研究[J].原子能科学技术,1993,27(6):481-487. |
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| 作者姓名： | 张建伟 王佩璇 张国光 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系 100083
(张建伟，王佩璇)，北京科技大学材料物理系 100083(张国光) |
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| 摘 要： | 采用Xe~+(300 keV)和Ar~+(90—120 keV)离子束,在室温下轰击双层型及多层膜样品,离子注量范围为1×10~(15)-1×10~(17)cm~(-2)。用俄歇电子能谱,X射线光电子能谱及卢瑟福背散射法分析成分的深度分布,并用透射电镜观察多层膜的结构。结果表明,体系中主要发生级联混合。对多层膜有Q∝φ1/2。而双层样品,则为Dt∝φ1/2。用Xe~+混合时,多层膜中部的混合显著多于两侧,与TRIM计算的能量沉积密度分布相符。多层膜混合后形成体心立方的β-Ti-Mo亚稳固溶体。碳、氧杂质对混合有显著的抑制作用,并在混合过程中重新分布。
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| 关 键 词： | 离子注入 离子束混合 薄膜 钛钼 |
ION BEAM MIXING OF Ti/Mo BILAYERS AND MULTILAYERS |
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| ZHANG JIANWEI,WANG PEIXUAN,ZHANG GUOGUANG.ION BEAM MIXING OF Ti/Mo BILAYERS AND MULTILAYERS[J].Atomic Energy Science and Technology,1993,27(6):481-487. |
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| Authors: | ZHANG JIANWEI WANG PEIXUAN ZHANG GUOGUANG |
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| Affiliation: | ZHANG JIANWEI,WANG PEIXUAN,ZHANG GUOGUANG Department of Materials Physics,University of Science and Technology,Beijing,100083 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ti/Mo system Ion implantation Ion beam mixing Thin film |
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