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键合方法研制InAsP/InGaAsP量子阱1.3μm垂直腔面发射激光器
作者姓名:劳燕锋  曹春芳  吴惠桢  曹萌  刘成  谢正生  龚谦
作者单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海,200050
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:设计并研制了由InAsP/InGaAsP应变补偿多量子阱有源层、SiO2/TiO2介质薄膜和GaAs/Al(Ga)As半导体分布布拉格反射镜(DBR)构成的垂直腔面发射激光器(VCSEL).采用直接键合技术实现InP基有源层与GaAs基DBR的晶片融合,并经过侧向湿法腐蚀定义电流限制孔径和沉积介质薄膜DBR等关键器件工艺,研制出InAsP/InGaAsP量子阱垂直腔面发射激光器,其阈值电流为13.5mA,单模激射波长为1288.6nm.

关 键 词:垂直腔面发射激光器  晶片直接键合  隧道结
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