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AlN陶瓷基片低温烧结性能的研究
引用本文:李家科,刘欣.AlN陶瓷基片低温烧结性能的研究[J].陶瓷(咸阳),2006(11):14-16.
作者姓名:李家科  刘欣
作者单位:景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,333001
摘    要:采用流延成形法制备AlN陶瓷基片,研究了烧结助剂、烧成温度和保温时间对AlN陶瓷基片烧结性能的影响。结果表明:在烧结助剂(CaF2-YF3)的添加量为4%、烧成温度为1650℃、保温3h,能得到结构致密的AlN陶瓷基片,体积密度达3.25g/c。采用XRD、SEM等检测手段对AlN陶瓷基片的物相和形貌进行了分析,揭示AlN陶瓷基片烧结性能与工艺参数之间的关系。

关 键 词:流延成形  烧结助剂  烧成制度  烧结性能  体积密度

Study on low temperature sintering performances of AlN ceramic substrate
Li Jiake,Liu Xin.Study on low temperature sintering performances of AlN ceramic substrate[J].Ceramics,2006(11):14-16.
Authors:Li Jiake  Liu Xin
Abstract:
Keywords:
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