| 坩锅下降法生长Nd3+∶LiYF4单晶及其光谱性能研究 |
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| 作者姓名： | 汪沛渊 夏海平 彭江涛 唐磊 胡皓阳 |
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| 作者单位： | 宁波大学光电子功能材料重点实验室,宁波,315211 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51272109,50972061,61275180);浙江省自然科学基金(R4100364,Z4110072);宁波市自然科学基金(2012A610115);宁波大学王宽诚幸福基金 |
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| 摘 要： | 以LiF∶ YF3∶NdF3=51.5∶47.5∶1为原料摩尔比,在50～60℃/cm固液界面温度梯度下,采用密封的坩埚下降法制备了尺寸为φ10 mm×50 mm的高质量Nd3+掺杂LiYF4单晶,并对产物的物相结构和光谱性能进行表征.结果表明,Nd3+在807 nm处的最大吸收系数α=1.96 cm-1,吸收跃迁截面为0.973 × 10-20 cm2.在808 nm LD激发下,测定了样品的荧光光谱和及最强荧光峰1050 nm(4F3/2→4I11/2)的荧光寿命(～451.0μs),并计算得到1050nm的最大受激发射跃迁截面为1.60×10-19 cm2.
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| 关 键 词： | Nd3+∶LiYF4单晶 坩锅下降法 吸收光谱 荧光光谱, |
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