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紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测试
引用本文:巴音贺希格,李燕,吴娜,于海利,张善文,齐向东. 紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测试[J]. 光学精密工程, 2009, 17(8)
作者姓名:巴音贺希格  李燕  吴娜  于海利  张善文  齐向东
作者单位:中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033;中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033;中国科学院,研究生院,北京,100049
基金项目:国家自然科学基金资助项目,中国科学院"优秀博士学位论文、院长奖获得者科研启动专项资金"资助项目,"十一五"国家科技支撑计划重大项目,吉林省科技发展计划资助项目 
摘    要:杂散光是光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的信噪比,紫外波段的杂散光对光谱分析尤为不利.为了考察平面刻划光栅用于光谱仪器时产生的杂散光,采用标量衍射理论数值分析了杂散光产生的原因.数值模拟结果表明,紫外平面刻划光栅刻槽周期随机误差以及刻槽深度随机误差是杂散光的主要来源,而光栅杂散光对光栅表面小尺度随机粗糙度并不敏感.提出了平面光栅光谱仪出射狭缝相对宽度的概念,数值分析了仪器出射狭缝高度及出射狭缝相对宽度与杂散光强度的关系,从而分别为在光栅制作工艺中从根源上降低光栅杂散光以及在光栅应用过程中从使用方法上降低光栅杂散光提供了理论依据.最后,为了与采用滤光片法测得的光栅杂散光实验值进行比较,给出了理论求解杂散光总强度的求和公式,并对4个不同波长的杂散光进行了多次测量.结果表明,当刻槽周期随机误差、刻槽深度随机误差和表面随机粗糙度分别取0.8 nm、 0.5 nm和1.2 nm时,理论值和实验值的相对误差可控制在13%左右.

关 键 词:衍射光栅  杂散光  数值分析

Numerical analysis and measurement of stray light from UV ruled gratings
Bayanheshig,LI Yan,WU Na,YU Hai-li,ZHANG Shan-wen,QI Xiang-dong. Numerical analysis and measurement of stray light from UV ruled gratings[J]. Optics and Precision Engineering, 2009, 17(8)
Authors:Bayanheshig  LI Yan  WU Na  YU Hai-li  ZHANG Shan-wen  QI Xiang-dong
Affiliation:Bayanheshig1,LI Yan1,2,WU Na1,YU Hai-li1,ZHANG Shan-wen1,QI Xiang-dong1(1. Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,Chinese Academy of Sciences,Changchun 130033,China,2. Graduate University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China)
Abstract:As one of important technical specifications of diffraction gratings,stray light directly affects Signal Noise Ratios(SNRs) of spectrometers;especially in spectrum analysis at UV spectral bands. In order to search the stray light from applications of ruled gratings in the spectrometers,this paper analyzes forming causes of the stray light in theory based on a scalar diffraction equation. The numerical simulation indicates that the random errors in the spacing of grating grooves and the random errors in the ...
Keywords:diffraction grating  stray light  numerical analysis  
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