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ITO/Ag光子晶体薄膜的制备及性能
引用本文:赵亚丽,马富花,江波,李克训,张青翠,魏学红.ITO/Ag光子晶体薄膜的制备及性能[J].光学精密工程,2015,23(6).
作者姓名:赵亚丽  马富花  江波  李克训  张青翠  魏学红
作者单位:1. 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护技术山西省重点实验室,山西太原030006;山西大学化学化工学院,山西太原030006
2. 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护技术山西省重点实验室,山西太原,030006
3. 山西大学化学化工学院,山西太原,030006
基金项目:山西省青年科学基金资助项目,山西大学预研基金资助项目,山西省自然科学基金资助项目
摘    要:考虑材料的电磁屏蔽特性和可见光透过的矛盾,设计了以铝/氧化铟锡(Ag/ITO)为周期的光子晶体薄膜以实现电磁屏蔽和可见光透过的兼容。首先根据电磁屏蔽和可视的双重需求,优化了光子晶体的组份并对其性能进行了研究。接着采用磁控溅射方法制备了以Ag/ITO为周期的光子晶体薄膜,并对光子晶体薄膜的屏蔽和可见光透光率进行了测试和分析。实验结果表明:这种光子晶体薄膜在金属Ag总膜厚大于可见光趋肤深度而远小于微波波段趋肤深度时,在可见光波段的最高透光率高达55%,而在微波x频率段的屏蔽性能最高可达65dB。通过结构设计,使薄膜的可见光透光率曲线与人眼的敏感曲线相吻合。随着每个周期Ag膜层的厚度增加,方阻相应降低,微波屏蔽性能相应提高。随着周期数的增加,薄膜的可见光透光率没有相应降低、屏蔽性能没有相应提高。设计的光子晶体薄膜在30 MHz~18GHz较宽波段的屏蔽性能均大于40dB。这种设计方法为材料的电磁屏蔽和可见光透明兼容开辟了一条新的技术途径。

关 键 词:光子晶体  光子晶体薄膜  ITO/Ag薄膜  电磁屏蔽  透明金属

Preparation and properties of ITO/Ag photonic crystal thin films
ZHAO Ya-li,MA Fu-hua,JIANG Bo,LI Ke-xun,ZHANG Qing-cui,WEI Xue-hong.Preparation and properties of ITO/Ag photonic crystal thin films[J].Optics and Precision Engineering,2015,23(6).
Authors:ZHAO Ya-li  MA Fu-hua  JIANG Bo  LI Ke-xun  ZHANG Qing-cui  WEI Xue-hong
Abstract:
Keywords:photonic crystal  photonic crystal thin film  ITO/Ag thin film  electromagnetic shielding  transparent metal
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