| 连续激光作用下滤光片熔坑形成机理研究 |
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| 引用本文： | 张翠娟,付博,张大勇,罗福,罗飞,袁红.连续激光作用下滤光片熔坑形成机理研究[J].应用激光,2009,29(5). |
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| 作者姓名： | 张翠娟 付博 张大勇 罗福 罗飞 袁红 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院流体物理研究所,四川,绵阳,621900 |
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| 摘 要： | 在532nm波长连续激光辐照ZnS/SiO2/K9 630～690nm多层膜滤光片的损伤实验的电镜扫描分析下观察到了"熔坑"的现象,根据这个现象建立了含有Pt杂质的532nm波长连续激光辐照ZnS/SiO2/K9 630～690nm多层膜滤光片的热损伤模型.结合温度场的计算,研究了532nm连续激光辐照630～690nm多层薄膜滤光片时杂质周围产生的温升效应,通过对计算结果与实验结果的比较,分析了杂质对滤光片薄膜激光损伤的影响.分析了连续激光作用下杂质对滤光片的破坏机制,解释了滤光片熔坑产生的原因.
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| 关 键 词： | 杂质 损伤 激光 滤光片 温度场 |
Damage Mechanisms of Multiplayer Films Filters under Continuous Laser Irradiation |
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