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980nm底发射VCSEL的DBR设计与优化
作者姓名:李特  宁永强  郝二娟  崔锦江  张岩  刘光裕  秦莉  刘云  王立军  崔大复  许祖彦
作者单位:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室;吉林大学农学部;中国科学院理化技术研究所
基金项目:国家自然科学基金(批准号:60636020,60676034,60577003,60706007);吉林省科技发展计划(批准号:20080335)资助项目
摘    要:根据DBR的工作原理,以P型DBR为例,通过研究DBR的能带结构详细分析了不同的渐变区宽度和不同的掺杂浓度下的DBR的电学特性和反射特性.选用Al0.9Ga0.1As和Al0.1Ga0.9As作为DBR的材料,设计了980 nmVCSELs的P型DBR,通过比较确定了Al组分渐变区的宽度和整个DBR结构的掺杂浓度.依此结构制作了980 nm底发射VCSELs,器件的Ⅰ-Ⅴ特性曲线显示器件的串联电阻约为0.05Ω.

关 键 词:VCSEL  DBR  组分渐变  串联电阻  反射率
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