一种适合于ASIC应用的新的工艺技术—CMOS逻辑VLSIE^2PROM的单片集成 |
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作者姓名: | Hide. M 张义强 |
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摘 要: | 我们开发了一种新的工艺技术,实现了在CMOS VLSI制造中嵌入E^2PROM的制造技术。在此新工艺中,制造的是单层多晶硅的E^2PROM。与传统的双层多晶硅E^2PROM的工艺相比,减少了25%的工序。通过采用三种不同厚度的栅氧化层,可以缩小在CMOSVLSI中嵌入的E^2PROM的器件尺寸。器件工作电压范围宽为1.5-6V,静态电流低于100nA。
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关 键 词: | CMOS 单片集成 VLSIE^2PROM 逻辑电路 ASIC 工艺 |
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