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| 薄膜物理与制备 | |
| 引用本文： | 吴卫东,冯建鸿,黄勇,许华,陈志梅,唐晓虹,罗江山.薄膜物理与制备[J].工程物理研究院科技年报,2003(1):99-100. |
| 作者姓名： | 吴卫东 冯建鸿 黄勇 许华 陈志梅 唐晓虹 罗江山 |
| 摘 要： | 薄膜物理与制备技术研究对于惯性约束聚变(ICF)实验具有重要意义，2003年开展的研究工作主要包括几个方面的内容：低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)法微球CH涂层及掺杂(溴等)技术研究；脉冲激光沉积(PLD)法Fe／Al合金薄膜研制；磁控溅射法Au／Gd，Ti／A1，Ti／Cr支撑薄膜研制；碳氢氮(CxNyH1-x-y)薄膜制备技术研究。相应主要结果如下：(1)利用低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)装置深入考察了以反式-2-丁烯如下： |
| 关 键 词： | 薄膜物理 制备工艺 惯性约束聚变实验 低压等离子体化学气相沉积 磁控溅射法 |
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