| LS-MOCVD的真空度测量及自动控制 |
| |
| 引用本文： | 高爱华,刘卫国,周顺,张伟.LS-MOCVD的真空度测量及自动控制[J].西安工业大学学报,2008,28(2):103-106. |
| |
| 作者姓名： | 高爱华 刘卫国 周顺 张伟 |
| |
| 作者单位： | 高爱华（西安工业大学,光电工程学院,西安,710032）;刘卫国（西安工业大学,光电工程学院,西安,710032）;周顺（西安工业大学,光电工程学院,西安,710032）;张伟（西安工业大学,光电工程学院,西安,710032） |
| |
| 基金项目： | 总装先进制造技术计划项目 |
| |
| 摘 要： | 对液态源金属有机物化学气相沉积(Liquid Source-Metal Organic Chemical Vapor Deposition,LS-MOCVD)设备.文中主要研究了LS-MOCVD的反应室真空获取和控制的方法.整个设备的操作控制由PLC和触摸屏协作完成,用冷阴极电离全量程规测量粗真空,用高精度薄膜规测量工艺过程中的真空,采用内置PID算法的智能蝶阀控制器构成高真空恒压测量控制回路,实现了LS-MOCVD反应室真空的自动测量控制,确保了工艺的稳定性.反应室真空测量范围为常压～8×10-3Pa,测量精度0.2%,分辨率为满量程的0.001 5%.解决了传统气态源MOCVD不同材料之间蒸汽压差大、难以控制及气态金属有机物难以获得的问题.
|
| 关 键 词： | 液态源MOCVD 真空测量控制 薄膜规 智能蝶阀控制器 PLC 真空度测量 自动控制 Autocontrol Measurement Vacuum 问题 压差 蒸汽 材料 MOCVD 气态 满量程 分辨率 测量精度 测量范围 稳定性 工艺过程 测量控制 控制回路 高真空 |
| 文章编号： | 1673-9965(2008)02-103-04 |
| 修稿时间： | 2007年12月6日 |
Design of Vacuum Measurement and Autocontrol for LS-MOCVD |
| |
| Authors: | GAO Ai-hua LIU Wei-guo ZHOU Shun ZHANG Wei |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
