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| 激光辅助纳米压印填充过程有限元分析 | |
| 引用本文： | 罗康,荆宜青,段智勇.激光辅助纳米压印填充过程有限元分析[J].华北水利水电学院学报,2013,34(4):98-101. |
| 作者姓名： | 罗康 荆宜青 段智勇 |
| 作者单位： | 1. 华北水利水电大学,河南郑州,450045 2. 河南财经政法大学现代教育技术中心,河南郑州,450002 3. 郑州大学,河南郑州,450001 |
| 摘 要： | 随着光刻技术的发展,电子器件的尺寸越来越小,已经进入纳米量级.几十年来,光学光刻技术在半导体加工图形转移的过程中一直扮演着重要角色,纳米压印技术以产量高、成本低、工艺流程简单的优点逐渐在图形转移技术中崭露头角.介绍了一种新型的激光辅助纳米压印技术,基于有限元方法并借助ANSYS软件对压印过程中二维的熔融层填充过程进行模拟.Si基板在激光作用下形成熔融层时,采用Mooney-Rivlin模型表示熔融层的机械性能.通过试验分析了深宽比、转移图形宽度和占空比对聚合物变形的影响,总结了技术的可行性与优越性,为以后纳米压印过程的优化提供了参数支持. |
| 关 键 词： | 纳米压印 激光辅助压印 ANSYS 有限元分析 |
Finite Element Analysis of Laser-assisted Nano-imprint Filling Process |
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| LUO kang , JING Yi-qing , DUAN Zhi-yong.Finite Element Analysis of Laser-assisted Nano-imprint Filling Process[J].Journal of North China Institute of Water Conservancy and Hydroelectric Power,2013,34(4):98-101. | |
| Authors: | LUO kang JING Yi-qing DUAN Zhi-yong |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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