| Ti缓冲层对ZnO薄膜吸收特性和荧光光谱的影响 |
| |
| 引用本文： | 张小雷,马书懿,杨付超,黄新丽,马李刚,李发明,赵强,刘静,靳钰珉.Ti缓冲层对ZnO薄膜吸收特性和荧光光谱的影响[J].功能材料,2012,43(24):3337-3340. |
| |
| 作者姓名： | 张小雷 马书懿 杨付超 黄新丽 马李刚 李发明 赵强 刘静 靳钰珉 |
| |
| 作者单位： | 1. 西北师范大学物理与电子工程学院,甘肃兰州,730070
2. 西北师范大学物理与电子工程学院,甘肃兰州730070 甘肃省原子分子物理与功能材料重点实验室,甘肃兰州730070 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，甘肃省自然科学基金资助项目，西北师范大学大学生科技创新基金对本项目的大力资助 致谢:感谢西北师范大学大学生科技创新基金对本项目的大力资助! |
| |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在Si衬底和玻璃衬底上制备了ZnO/Ti薄膜,利用紫外-可见分光光度计和荧光分光光度计等技术表征了ZnO/Ti薄膜的光学特性,研究了Ti缓冲层的厚度对ZnO薄膜的影响。透射吸收光谱显示所有ZnO薄膜在可见光区域的平均透过率超过80%,当引入缓冲层后,薄膜的紫外吸收边先向长波方向移动,且随着缓冲层厚度的增加紫外吸收边向短波方向移动。薄膜的荧光光谱显示,所有样品出现了位于390nm的紫外发光峰,435和487nm的蓝光双峰以及525nm的绿光峰,并对各发光峰的来源进行了探讨。
|
| 关 键 词： | Ti缓冲层 紫外-可见光吸收光谱 荧光光谱 ZnO薄膜 磁控溅射 |
Effects of Ti buffer layer on the absorption characteristic and fluorescence spectrum of ZnO films |
| |
| ZHANG Xiao-lei,MA Shu-yi,YANG Fu-chao,HUANG Xin-li,MA Li-gang,LI Fa-ming,ZHAO Qiang,LIU Jing,JIN Yu-min.Effects of Ti buffer layer on the absorption characteristic and fluorescence spectrum of ZnO films[J].Journal of Functional Materials,2012,43(24):3337-3340. |
| |
| Authors: | ZHANG Xiao-lei MA Shu-yi YANG Fu-chao HUANG Xin-li MA Li-gang LI Fa-ming ZHAO Qiang LIU Jing JIN Yu-min |
| |
| Affiliation: | 1(1.College of Physics and Electronic Engineering,Northwest Normal University,Lanzhou 730070,China; 2.Key Laboratory of Atomic and Molecular Physics & Functional Materials of Gansu Province, Lanzhou 730070,China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Ti buffer layer absorption characteristic fluorescence spectrum ZnO film RF magnetron sputtering |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
