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退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响
引用本文:蒋力立,唐新桂,唐振方.退火温度对锆酸铅薄膜光学性能的影响[J].广东工业大学学报,2005,22(1):7-9,14.
作者姓名:蒋力立  唐新桂  唐振方
作者单位:广东工业大学,实验中心,广东,广州,510090;广东工业大学,应用物理学院,广东,广州,510090;暨南大学,物理系,广东,广州,510632
摘    要:用溶胶-凝胶法在石英玻璃基片上成功地制备了PbZrO3(PZ)薄膜.X射线衍射分析结果表明晶化好的PZ薄膜,是多晶钙钛矿结构.750℃晶化的薄膜,晶粒尺寸为30~50nm.用紫外-可见光分光光度计在波长200~900nm范围内,测量了不同温度退火的PZ薄膜的透射率,结果表明450、600、750℃退火的薄膜样品,其光学吸收边分别为4.11、4.56、4.59eV.

关 键 词:PbZrO3薄膜  光学特性  吸收边
文章编号:1007-7162(2005)01-0007-03

Effect of Annealing Temperature on the Optical Properties of PbZrO3Thin Films
JIANG Li-li,TANG Xin-gui,TANG Zhen-fang.Effect of Annealing Temperature on the Optical Properties of PbZrO3Thin Films[J].Journal of Guangdong University of Technology,2005,22(1):7-9,14.
Authors:JIANG Li-li  TANG Xin-gui  TANG Zhen-fang
Abstract:
Keywords:PbZrO_(3)thin film  optical property  band gap
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