| 用AES研究铝薄膜与基体金属铀之间的界面反应 |
| |
| 引用本文： | 周韦,刘柯钊,杨江荣,肖红,蒋春丽,陆雷.用AES研究铝薄膜与基体金属铀之间的界面反应[J].原子能科学技术,2005,39(Z1):151-155. |
| |
| 作者姓名： | 周韦 刘柯钊 杨江荣 肖红 蒋春丽 陆雷 |
| |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621907 |
| |
| 摘 要： | 在俄歇电子能谱(AES)仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将Al沉积在U基体上.对不同Al沉积量的铀表面实时采集AES和低能电子损失谱(EELS),以研究沉积Al原子与U表面原子间的相互作用以及Al膜的生长过程.将实验样品进行退火处理后进行深度剖析.研究结果表明Al沉积在U基体上是以岛状方式生长的;室温下,沉积Al原子与U表面原子间存在界面作用,两者在界面处相互扩散形成了合金相.退火促使界面扩散速率增大,界面结合力增强,并有可能形成化合物UAlx.
|
| 关 键 词： | 铀 铝薄膜 界面 俄歇电子能谱 |
| 文章编号： | 1000-6931(2005)S0-0151-05 |
| 修稿时间： | 2005年1月5日 |
Auger Electron Spectroscopy Study on Interaction Between Aluminum Thin Layers and Uranium Substrate |
| |
| ZHOU Wei,LIU Ke-zhao,YANG Jiang-rong,XIAO Hong,JIANG Chun-li,Lu Lei.Auger Electron Spectroscopy Study on Interaction Between Aluminum Thin Layers and Uranium Substrate[J].Atomic Energy Science and Technology,2005,39(Z1):151-155. |
| |
| Authors: | ZHOU Wei LIU Ke-zhao YANG Jiang-rong XIAO Hong JIANG Chun-li Lu Lei |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
