| MoSi2高温氧化层的微观结构 |
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| 引用本文： | 常春,李木森,陈传中,田雷言.MoSi2高温氧化层的微观结构[J].金属学报,2003,39(2):126-130. |
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| 作者姓名： | 常春 李木森 陈传中 田雷言 |
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| 作者单位： | 山东大学材料科学与工程学院,济南,250061 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目50171037 |
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| 摘 要： | 采用SEM，TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200－1600℃的氧化层微观结构。在1240℃以下，氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成，致密度较差。1240－1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英，氧化层较薄。在1520℃以上，氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英，氧化层致密而均匀，增强了材料的抗氧化性能。
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| 关 键 词： | 高温氧化层 MoSi2 微观结构 方石英 |
| 文章编号： | 0412-1961(2003)02-0126-05 |
| 收稿时间： | 2002-04-15 |
| 修稿时间： | 2002年4月15日 |
MICROSTRUCTURE OF HIGH-TEMPERATURE OXIDATION LAYER OF MOLYBDENUM DISILICIDE |
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| CHANG Chun,LI Musen,CHEN Chuanzhong,TIAN Leiyan.MICROSTRUCTURE OF HIGH-TEMPERATURE OXIDATION LAYER OF MOLYBDENUM DISILICIDE[J].Acta Metallurgica Sinica,2003,39(2):126-130. |
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| Authors: | CHANG Chun LI Musen CHEN Chuanzhong TIAN Leiyan |
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| Affiliation: | College of Materials Science and Engineering, Shandong University, Jinan 250061 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MoSi2 microstructure oxidation layer ctistobalite |
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