超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究 |
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引用本文: | 李天富,陈东风,王洪立,孙凯,刘蕴韬.超薄Fe(4?)膜磁特性极化中子反射研究[J].物理学报,2009,58(11):7993-7997. |
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作者姓名: | 李天富 陈东风 王洪立 孙凯 刘蕴韬 |
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作者单位: | (1)中国原子能科学研究院,北京 102413; (2)中国原子能科学研究院,北京 102413;德国柏林HMI研究所,柏林 D-14109 |
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基金项目: | 利用分子束外延薄膜生长技术,制备了200V/4 Fe/900V/MgO(100)薄膜样品,通过X射线反射和极化中子反射两种测量手段获得了薄膜的表面、界面及各层膜厚的相关结构信息.中子反射结果表明,Fe原子磁矩在室温下约为1.0±0.1 μB,随着温度的降低,Fe原子磁矩增加,在10 K时达到1.5±0.1 μB.利用指数定律拟合磁矩随温度的变化情况,外推得出4铁薄膜样品的居里温度约为310±30 K. |
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摘 要: | Ultrathin Fe film 200 V/4 Fe/900 V/MgO(100) has been prepared by molecular beam epitaxy (MBE). The structure parameters, such as the surface and interface roughness and the thickness of each layer, were obtained by X-ray and neutron reflectivity mea
关键词:
超薄Fe膜
磁特性
极化中子反射
分子束外延
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关 键 词: | 超薄Fe膜 磁特性 极化中子反射 分子束外延 |
收稿时间: | 2009-01-15 |
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