| PZT多层薄膜物性的研究 |
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| 引用本文： | 陶向明,谭明秋,许宇庆,张其瑞.PZT多层薄膜物性的研究[J].真空科学与技术学报,1996(2). |
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| 作者姓名： | 陶向明 谭明秋 许宇庆 张其瑞 |
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| 作者单位： | 浙江大学物理系!杭州，310027，杭州大学物理系，浙江大学物理系!杭州310027，浙江大学物理系!杭州310027，浙江大学物理系!杭州310027 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金!69201006，浙江省自然科学基金!192056 |
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| 摘 要： | 对磁控溅射PZT铁电多层薄膜进行了分析，结果表明：通过对多层薄膜合理的设计和厚度控制，可以改善薄膜的性能，为进一步的器件应用提供了可能性。通过研究发现。制备多层膜较理想的溅射条件是衬底温度Ts＝650℃，薄膜子层厚度约为300um，衬底则以MgO（100）单晶、SiO2（100）单晶为佳。结构分析的结果显示出：PZT多层铁电膜中的晶粒排列整齐，颗粒大小均匀，基本上和衬底成定向织构，膜的电畴呈180°。通过比较可以发现，子层厚度及总厚度超薄，膜的介电常数越大，弛豫频率也越高。但薄膜总厚度对多层膜的绝缘性能影响不大，这说明薄膜的绝缘性质主要是由金属－铁电薄膜的界面决定的。在不同的电压下，多层膜的传导性能影响肖特基势垒的穿透和Fowler－Nordheim隧穿。
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| 关 键 词： | 铁电 多层薄膜 锆钛酸铅 |
THE PROPERTIES OF MULTI-LAYERED PZT FILMS |
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| Tao Xiangming, Tan Mingqiu, Xu Yuqing, Zhang Qirui.THE PROPERTIES OF MULTI-LAYERED PZT FILMS[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1996(2). |
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| Authors: | Tao Xiangming Tan Mingqiu Xu Yuqing Zhang Qirui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ferroelectric Multi-layered thin film Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3 |
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