首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

混晶GaAs_(1-x)P_x:N中N等电子杂质诱发的共振喇曼散射
引用本文:俞容文,郑健生,肖梅杰,林之融,颜炳章. 混晶GaAs_(1-x)P_x:N中N等电子杂质诱发的共振喇曼散射[J]. 厦门大学学报(自然科学版), 1995, 0(6)
作者姓名:俞容文  郑健生  肖梅杰  林之融  颜炳章
基金项目:国家和福建省自然科学基金
摘    要:研究了混晶材料GaAs_(1-x)P_x:N(x=0.76,0.65)中的共振喇曼散射,在背散射配置的(100)晶向观察到“禁戒”的TO声子散射模.这一实验现象解释为在共振激发N_x杂质带的条件下,由于晶体对称性的喇曼选择定则失效,TO模成为喇曼活性.根据热猝灭规律,还给出区分共振喇曼散射和热荧光的一个实用判据.

关 键 词:Ⅲ-Ⅴ族混晶半导体,共振喇曼散射

Resonant Raman Scattering Induced by Isoclectronic Impurities in GaAs_(1-x)P_x:N Alloys
Yu Rongwen,Zheng Jiansheng,Xiao Meijie,Lin Zhirong,Yan Bingzhang. Resonant Raman Scattering Induced by Isoclectronic Impurities in GaAs_(1-x)P_x:N Alloys[J]. Journal of Xiamen University(Natural Science), 1995, 0(6)
Authors:Yu Rongwen  Zheng Jiansheng  Xiao Meijie  Lin Zhirong  Yan Bingzhang
Affiliation:Dept.of Phys.
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号