| 水基光敏树脂的合成 |
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| 引用本文： | 陶莉,黄高山,聂辉,黄亮. 水基光敏树脂的合成[J]. 电镀与涂饰, 2002, 21(3): 34-37,58 |
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| 作者姓名： | 陶莉 黄高山 聂辉 黄亮 |
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| 作者单位： | 湖南轻工研究院,湖南,长沙,410015 |
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| 摘 要： | 以还氧树脂、丙烯酸、马来酸酐为原料 ,研究了原料投料比、反应温度、催化剂、溶剂等因素对合成水基光敏树脂性能的影响。当丙烯酸酸当量 /还氧当量 =1 0 0∶1 0 5,马来酸酐酸酐当量 /还氧当量 =1 0 0∶1 0 5,催化剂用四甲基氯化铵 ,酸改性溶剂为丙酮 ,反应温度为 80± 2℃ ,反应时间为 2 5h情况下 ,合成的水基光敏树脂水溶性较好 ,以其配制的水性涂料 ,含水在 1 0 %～ 2 0 % (质量分数 )时 ,涂料的涂布性能好 ,固化速度快 (2～ 3s)。
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| 关 键 词： | 水基光敏树脂 合成 光固化 涂料 |
| 文章编号： | 1001-227X(2002)03-0034-04 |
Synthesis of water-based photosensitive resin |
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| TAO Li,HUANG Gao-shan,NIE Hui,HUANG Liang. Synthesis of water-based photosensitive resin[J]. Electroplating & Finishing, 2002, 21(3): 34-37,58 |
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| Authors: | TAO Li HUANG Gao-shan NIE Hui HUANG Liang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | water-based photosensitive resin synthesis |
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