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硅射频微带电路S参数模拟研究
引用本文:韩振宇,李树羽中,汪锁发,赵知夷. 硅射频微带电路S参数模拟研究[J]. 电子器件, 2004, 27(2): 241-244
作者姓名:韩振宇  李树羽中  汪锁发  赵知夷
作者单位:中国科学院微电子研究所,北京,100029;中国科学院微电子研究所,北京,100029;中国科学院微电子研究所,北京,100029;中国科学院微电子研究所,北京,100029
基金项目:国家重点基础研究发展规划 (973,G2 0 0 2CB31190 6 )资助项目
摘    要:对不同电阻率硅片射频微带电路S参数进行了模拟研究。建立了 5层结构的微带电路物理结构模型 ,对两种电阻率硅片上不同尺寸 (2× 10 - 5m到 2 0× 10 - 5m)微带线 1~ 10GHz频率范围内的S1 1 和S2 1 参数进行模拟计算。研究结果表明 :减少低电阻率硅片 (3~ 8Ω·cm)线条宽度对减小信号反射和提高传输有益 ;高电阻率硅片 (130~ 15 0Ω·cm)上细线条尺寸微带电路信号反射和提高传输特性也更好。频率越高 ,高阻硅片微带电路的高频性能更好。

关 键 词:硅片  微带电路  S参数  反射  传输
文章编号:1005-9490(2004)02-0241-04

A Study on S Parameters of RF Microstrip Circuits on Si
HAN Zhen-yu,LI Shu-chong,WANG Suo-fa,ZHAO Zhi-yi. A Study on S Parameters of RF Microstrip Circuits on Si[J]. Journal of Electron Devices, 2004, 27(2): 241-244
Authors:HAN Zhen-yu  LI Shu-chong  WANG Suo-fa  ZHAO Zhi-yi
Abstract:
Keywords:Si wafer  microstrip circuits  S Parameters  reflection  transmission  
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