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基于折射率调制的表面等离子体全息衍射效率分析
引用本文:王迪,尹韶云,江海波,马宏博,高天元.基于折射率调制的表面等离子体全息衍射效率分析[J].光子学报,2019,48(4):36-42.
作者姓名:王迪  尹韶云  江海波  马宏博  高天元
作者单位:长春理工大学光电测控与光信息传输技术教育部重点实验室,长春130022;中国科学院重庆绿色智能技术研究院集成光电技术中心,重庆400714;中国科学院重庆绿色智能技术研究院集成光电技术中心,重庆,400714;长春理工大学光电测控与光信息传输技术教育部重点实验室,长春,130022
基金项目:国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家重点研发计划
摘    要:针对折射率调制的表面等离子体全息显示方案,采用严格耦合波计算方法,仿真了变折射率薄膜正弦光栅结构参数与衍射效率的关系.结果表明,银作为表面等离子体激发材料时,0.2μm为光栅最优厚度,在此基础上,一级次光衍射效率与折射率差值、周期呈正比增长关系.对折射率范围进行了拓展,确定了折射率调制范围在1.34~1.8、周期为0.9μm时,对应的衍射效率可达33%以上.研究结果对于优化设计表面等离子体全息显示结构具有参考意义.

关 键 词:全息  表面等离子体  严格耦合波分析法  正弦光栅  衍射效率

Diffraction Efficiency Analysis of Surface Plasmon Holography Based on Refractive Index Modulation
WANG Di,YIN Shao-yun,JIANG Hai-bo,MA Hong-bo,GAO Tian-yuan.Diffraction Efficiency Analysis of Surface Plasmon Holography Based on Refractive Index Modulation[J].Acta Photonica Sinica,2019,48(4):36-42.
Authors:WANG Di  YIN Shao-yun  JIANG Hai-bo  MA Hong-bo  GAO Tian-yuan
Affiliation:(Key Laboratory of Optoelectric Measurement & Control and Optical Information Transfer Technology,Ministry ofEducation,Changchun University of Science and Technology,Changchun130022,China;Integrated Optoelectronic Technology Center,Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology,Chinese Academy of Sciences,Chongqing 400714,China)
Abstract:WANG Di;YIN Shao-yun;JIANG Hai-bo;MA Hong-bo;GAO Tian-yuan(Key Laboratory of Optoelectric Measurement & Control and Optical Information Transfer Technology,Ministry ofEducation,Changchun University of Science and Technology,Changchun130022,China;Integrated Optoelectronic Technology Center,Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology,Chinese Academy of Sciences,Chongqing 400714,China)
Keywords:Holography  Surface plasma  Rigorous couple-wave analysis  Sinusoidal grating  Diffraction efficiency
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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