热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响

本文用磁控溅射法制备了厚度２０－２００ｎｍ的ＮｉＦｅ合金薄膜。研究了热处理温度对ＮｉＦｅ薄膜电阻、各向异性磁电阻比和软磁性能的影响。适当温度下的热处理可以减小ＮｉＦｅ薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比，从而制备出性能较好的薄膜磁性材料。