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| 热处理对离子束溅射Ta_2O_5薄膜特性的影响 | |
| 引用本文： | 刘华松,姜承慧,王利栓,刘丹丹,季一勤,陈德应. 热处理对离子束溅射Ta_2O_5薄膜特性的影响[J]. 光学精密工程, 2014, 22(10) |
| 作者姓名： | 刘华松 姜承慧 王利栓 刘丹丹 季一勤 陈德应 |
| 作者单位： | 1. 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所,天津300192;哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国家级重点实验室,黑龙江哈尔滨150080 2. 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所,天津,300192 3. 哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国家级重点实验室,黑龙江哈尔滨,150080 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目，中国博士后科学基金资助项目，天津市自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100~600℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究。研究显示,随着热处理温度增加,薄膜折射率整体呈下降趋势,折射率非均匀性和物理厚度呈增加趋势,结果有效地改善了薄膜的消光系数和应力,但薄膜的晶向和表面形貌均未出现明显的变化。结果表明:热处理可以有效改变薄膜特性,但需要根据Ta2O5薄膜具体应用综合选择最优的热处理温度。本文对离子束溅射Ta2O5薄膜的热处理参数选择具有指导意义。 |
| 关 键 词： | 离子束溅射 TaO薄膜 退火温度 光学常数 薄膜折射率 |
Effects of annealing on properties of Ta2O5 thin films deposited by ion beam sputtering |
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| LIU Hua-song,JIANG Cheng-hui,WANG Li-shuan,LIU Dan-dan,JI Yi-qin,CHEN De-ying. Effects of annealing on properties of Ta2O5 thin films deposited by ion beam sputtering[J]. Optics and Precision Engineering, 2014, 22(10) | |
| Authors: | LIU Hua-song JIANG Cheng-hui WANG Li-shuan LIU Dan-dan JI Yi-qin CHEN De-ying |
| Abstract: | |
| Keywords: | Ion Beam Sputtering (IBS) Ta2O5 film annealing temperature optical constant thin film refractivity |
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