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| BF_2~+注入Si的快速退火 | |
| 引用本文： | 林成鲁,林梓鑫,陈莉芝,邹世昌.BF_2~+注入Si的快速退火[J].电子学报,1987(6). |
| 作者姓名： | 林成鲁 林梓鑫 陈莉芝 邹世昌 |
| 作者单位： | 中国科学院上海冶金所 (林成鲁，林梓鑫，陈莉芝)，中国科学院上海冶金所(邹世昌) |
| 摘 要： | 利用高频感应的石墨加热器对注BF_2~+的硅片进行快速退火能获得比常规退火更浅的结。对这两种退火所引起的B和F的扩散进行了比较。实验观察到F原子分布的双峰,是注入层再结晶时F原子的外扩散所致。 |
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