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双缝衍射用于CCD响应特性标定的模拟研究
引用本文:王淑青,段海峰,杨泽平,张雨东.双缝衍射用于CCD响应特性标定的模拟研究[J].光电工程,2001,28(4):19-21.
作者姓名:王淑青  段海峰  杨泽平  张雨东
作者单位:中国科学院光电技术研究所
基金项目:国家863高技术资助项目
摘    要:输入输出响应特性是CCD应用中一项重要参数,标定一参数的方法很多。介绍一种新的标定方法-双缝衍射法,即利用双缝衍射图像各亮条纹的衰减关系来产生不同的CCD能量的输入,从而标定CCD的响应。给出了模拟结果。

关 键 词:双缝衍射  电荷耦合器件  响应特性  模拟
文章编号:1003-501(2001)04-0019-03
修稿时间:2001年2月23日

Simulation Research for Double-Slit Diffraction Application to CCD Response Features Scaling
WANG Shu-qing,DUAN Hai-feng,YANG Ze-ping,ZHANG Yu-dong.Simulation Research for Double-Slit Diffraction Application to CCD Response Features Scaling[J].Opto-Electronic Engineering,2001,28(4):19-21.
Authors:WANG Shu-qing  DUAN Hai-feng  YANG Ze-ping  ZHANG Yu-dong
Abstract:Input/output response feature is an important parameter in CCD application. There are a lot of methods for scaling this parameter. A new scaling method-double-slit diffraction method is introduced in the paper. That is to say, the different CCD energy inputs are produced by means of the attenuating relation among various bright fringes in double-slit diffraction image, thus the CCD response can be scaled. The simulation results are also given in the paper.
Keywords:Double-slit diffraction  CCD  Response characteristics  Simulation
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