| 新型直流磁控溅射电源的研究与设计 |
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| 引用本文： | 陈桂涛,杨欣然,孙强,黄西平.新型直流磁控溅射电源的研究与设计[J].电力电子技术,2015,49(4):61-63. |
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| 作者姓名： | 陈桂涛 杨欣然 孙强 黄西平 |
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| 作者单位： | 西安理工大学,自动化与信息工程学院,陕西西安710048 |
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| 摘 要： | 研究并设计了一种适用于直流磁控溅射的新型数字化电源。针对直流磁控溅射工艺的要求,从系统控制策略和电弧保护两方面进行研究。设计了带指令电流前馈补偿的双闭环控制策略,并给出详细的设计方法;提出溅射过程出现异常弧光现象时,针对软弧和硬弧采取不同保护方式的两级保护方法,并描述了基于HCPL-316J的驱动电路设计。搭建10 kw实验样机进行验证,结果表明带指令电流前馈补偿的双闭环控制策略具有良好的动态性和稳定性,两级保护方法可有效熄灭电弧,提升溅射的质量。
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| 关 键 词： | 电源 磁控溅射 指令电流前馈 电弧保护 |
Research and Design of a Novel DC Magnetron Sputtering Power Supply |
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| CHEN Gui-tao
,
YANG Xin-ran
,
SUN Qiang
,
HUANG Xi-ping.Research and Design of a Novel DC Magnetron Sputtering Power Supply[J].Power Electronics,2015,49(4):61-63. |
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| Authors: | CHEN Gui-tao YANG Xin-ran SUN Qiang HUANG Xi-ping |
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| Affiliation: | CHEN Gui-tao;YANG Xin-ran;SUN Qiang;HUANG Xi-ping;Xi’an University of Technology; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | power supply magnetron sputtering current-reference feed-forward arc protection |
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